HolaEN Puls 300-YLF

En holaEN Pulso 300-YLF está construido utilizando Módulo de bombeo PH6000 basado en Cristal Nd:YLF con un bajo efecto de lente térmica inherente. Esto asegura mejor calidad de haz, polarización más pura y menor estrés mecánico, lo que lo convierte en una excelente opción para regímenes de operación de alta energía.

El láser entrega hasta 300 mJ a 1053 nm con armónicos en 526.5 nm y 351 nm, operando en 100 Hz con pulsos de 10 ns. Más allá de estas cifras, lo que realmente lo distingue es su estabilidad excepcional de la energía de pulso – Valores RMS en un rango de 1 % en todas las salidas. Gracias a la reducción de la carga térmica y a un diseño minucioso Arquitectura MOPA, el rendimiento sigue siendo coherente con la deriva a largo plazo dentro de un margen de ±1 %.

El suave perfil de haz super-Gaussiano proporciona una distribución de energía uniforme, lo que mejora directamente los resultados en espectroscopia no lineal, bombeo de láser OPO, Ti:Zafiro o de colorante, y ablación de materiales donde la precisión y la homogeneidad son críticas.

Patente tecnología de sujeción sin soldadura extiende la vida útil de los diodos a más de mil millones de disparos, asegurando un rendimiento estable mientras se minimizan las interrupciones del servicio. Este diseño único también mejora la gestión térmica de los diodos de bombeo, añadiendo otra capa de seguridad operativa.

Con su estructura modular, salida personalizable y funcionamiento de mantenimiento excepcionalmente bajo, el holaEN Pulso 300-YLF se erige como el láser de nanosegundo duradero y de alta energía de elección para aplicaciones industriales y de investigación avanzadas.